天然モアッサナイトは希少であるため、炭化ケイ素のほとんどは合成です。研磨剤として使用され、最近では半導体や宝石品質のダイヤモンド模造品としても使用されています。最もシンプルな製造方法は、アチソングラファイト電気抵抗炉でシリカ砂と炭素を1,600℃(2,910℉)から2,500℃(4,530℉)の高温で混合することです。植物性物質(例えば、籾殻)に含まれる微細なSiO2粒子は、有機物に含まれる過剰の炭素を加熱することでSiCに変換できます。金属シリコンやフェロシリコン合金の製造時に副産物として発生するシリカフュームも、グラファイトと共に1,500℃(2,730℉)で加熱することでSiCに変換できます。
F12-F1200、P12-P2500
0~1mm、1~3mm、6/10、10/18、200メッシュ、325メッシュ
ご要望に応じてその他の特別仕様もご提供可能です。
グリット | シック | FC | Fe2O3 |
F12-F90 | ≥98.50 | <0.20 | ≤0.60 |
F100-F150 | ≥98.00 | <0.30 | ≤0.80 |
F180-F220 | ≥97.00 | <0.30 | ≤1.20 |
F230-F400 | ≥96.00 | <0.40 | ≤1.20 |
F500-F800 | ≥95.00 | <0.40 | ≤1.20 |
F1000-F1200 | ≥93.00 | <0.50 | ≤1.20 |
P12~P90 | ≥98.50 | <0.20 | ≤0.60 |
P100~P150 | ≥98.00 | <0.30 | ≤0.80 |
P180~P220 | ≥97.00 | <0.30 | ≤1.20 |
P230~P500 | ≥96.00 | <0.40 | ≤1.20 |
P600~P1500 | ≥95.00 | <0.40 | ≤1.20 |
P2000~P2500 | ≥93.00 | <0.50 | ≤1.20 |
グリッツ | 嵩密度 (グラム/cm3) | 高密度 (グラム/cm3) | グリッツ | 嵩密度 (グラム/cm3) | 高密度 (グラム/cm3) |
F16〜F24 | 1.42~1.50 | ≥1.50 | F100 | 1.36~1.45 | ≥1.45 |
F30~F40 | 1.42~1.50 | ≥1.50 | F120 | 1.34~1.43 | ≥1.43 |
F46~F54 | 1.43~1.51 | ≥1.51 | F150 | 1.32~1.41 | ≥1.41 |
F60~F70 | 1.40~1.48 | ≥1.48 | F180 | 1.31~1.40 | ≥1.40 |
F80 | 1.38~1.46 | ≥1.46 | F220 | 1.31~1.40 | ≥1.40 |
F90 | 1.38~1.45 | ≥1.45 |
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